Контакты
119454, ЦФО, Пр-т Вернадского, 78
Телефон:
+7 499 215-65-65 доб. 5140

Литограф e_LiNE plus system

(RAITH, Германия), 2013 год

Raith eLINE Plus — система, объединяющая в себе функционал передового электронно-лучевого литографа ультравысокого разрешения, расширенные возможности аналитического автоэмиссионного электронного микроскопа и инструменты рабочей станции для наноинжиниринга. Предназначена для научных центров и центров коллективного пользования, специализирующихся на разработках и исследованиях в сфере физики, оптики, фотоники, микро, наноэлектроники и нанотехнологий.

e_LiNE plus обеспечивает самое эффективное выполнение разработческих задач литографирования и сканирования пластин. Он сочетает в себе классическую нанолитографическую рабочую станцию с возможностями реализации разнообразных многоцелевых приложений без компромисса относительно показателей производительности нанолитографа.

e_LiNE plus позволяет осуществлять литографирование с ультравысоким разрешением на пластинах размером вплоть до 4 дюймов с автоматическим контролем и корректировкой процесса экспонирования. Cтабильность параметров электронно-оптической колонны и применение методов автоматической корректировки дрейфа и фокусировки позволяет осуществлять длительную работу с образцами как малой, так и большой площади поверхности.

e_LiNE plus — единственная система, которая позволяет профессионально выполнять задачи литографирования сложных структур и задачи наноконструирования. Профессиональная нанолитография достигнута за счет:

  • полностью интегрированной литографической архитектуры прибора
  • гибкого программного обеспечения
  • контролируемого лазерным интерферометром предметного стола, обеспечивающего нанометровую точность позиционирования
  • уникальных режимов экспонирования FBMS (литографирование столом при неподвижном пучке) и MBMS (литографирование столом и модулированным пучком), позволяющим достигнуть бесшовного экспонирования протяженных (например, волноводов) или периодических структур (например, фотонных кристаллов) на больших площадях поверхности.